深度、行业、半导体新股系列4-拓荆科技：主导PECVD、SACVD、ALD等薄膜沉积设备国产化

发布时间:2021年07月26日

深度行业半导体新股系列4拓荆科技主导PECVD、SACVD、ALD等薄膜沉积设备国产化概况7月12日，拓荆科技股份有限公司披露招股说明书（申报稿），本次募集资金10亿元用于高端半导体设备扩产项目、先进半导体设备的技术研发与改进项目、ALD设备研发与产业化项目以及补充流动资金。公司20182020年研发费用占营业收入的比例分别为152.84%、29.58%、拓荆科技是国内唯一一家产业化应用的集成电路PECVD、SACVD设备厂商，产品关键性能和技术已达到国际先进水平。主要产品已广泛应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线，并已展开10nm及以下制程产品验证测试。...
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